QCMT 流動(dòng)池
石英晶體微量天平 (QCM) 技術(shù)對(duì)確定許多化合物,例如金屬蛋白,金屬離子和硫醇偶聯(lián)的寡核苷酸等非常有效。
當(dāng)物質(zhì)吸附到電極表面時(shí)石英的諧振頻率發(fā)生變化。通過這種獨(dú)特的方法 , 該產(chǎn)品能夠用于超微定量分析。

- 內(nèi)含品項(xiàng)
- 測(cè)定例
- 石英晶振片
- 應(yīng)用范圍
| 產(chǎn)品編號(hào) | 品名 | 內(nèi)含品項(xiàng) |
| 013486 | QCMT 流動(dòng)池套件 | PMP流動(dòng)池 PMP 電化學(xué)池 PMP 電化學(xué)池蓋 聚四氟乙烯管 密封接頭 PEEK (2 個(gè)) 固定用螺絲 (2 個(gè)) 硅膠 O 型墊圈 (2 個(gè)) 流動(dòng)池底座支架 鉑對(duì)電極 |
| 可選購(gòu)品項(xiàng) | ||
| 012167 | RE-1B 參比電極 (Ag/AgCl) | |
| 013848 | RE-7N 非水參比電極 (Ag/Ag+) | |
相關(guān)產(chǎn)品

10 MHz的晶振片的厚度為0.16 mm。增加頻率越高晶振片的厚度就越薄,安裝時(shí)會(huì)很困難。晶振片頻率,需要同時(shí)考慮安裝難易和分辨率高低這兩點(diǎn)。 本公司提供兩種表面狀態(tài)的晶振片。表面拋光晶振片和表面未拋光型晶振片。 標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品為表面拋光處理的晶振片。表面拋光石英晶振片表面沉積的金薄層厚為100 nm,金薄層下面的粘接劑層為10 nm的鈦薄層,表面為拋光狀態(tài)。
對(duì)于一般的QCM,EQCM的測(cè)量,我們通常推薦使用表面拋光的晶振片。
然而,當(dāng)進(jìn)行EQCM測(cè)量時(shí),如果在相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間內(nèi)施加較高電壓,粘合劑層的鈦有可能會(huì)影響測(cè)定,在這種特定情況下,請(qǐng)使用的表面非拋光型晶振片。表面非拋光型晶振片是直接將金屬沉積在晶振片的表面。由于沒有粘接劑層,沉積的金屬比較容易從石英晶片表面剝離下來。
| 產(chǎn)品編號(hào) | 品名 | 數(shù)量 | 頻率 |
| 013610 | 金盤石英晶振片 | 5 | 7.995 MHz |
| 013447 | 鉑盤石英晶振片 | 3 | |
| 012772 | 帶接頭空白石英晶振片 | 5 |
EQCM測(cè)定的應(yīng)用
對(duì)于電極反應(yīng)產(chǎn)物的吸附和脫附和金屬的電解沉積等電極表面現(xiàn)象的各種研究, EQCM測(cè)定是相當(dāng)有用的。
將QCM流動(dòng)池倒過來安放,即可用于EQCM測(cè)量。
EQCM測(cè)量時(shí), 石英晶振片作為工作電極用于電解,在電解過程中電極表面上發(fā)生的質(zhì)量變化可以通過振動(dòng)頻率的變化進(jìn)行同時(shí)測(cè)量。
當(dāng)循環(huán)伏安法(CV)和頻率振動(dòng)變化進(jìn)行同時(shí)測(cè)量時(shí),能夠調(diào)查發(fā)生在電極表面的電流和質(zhì)量的變化。
此外,可以進(jìn)行振動(dòng)頻率變化同時(shí)測(cè)量的常用電化學(xué)測(cè)量方法為: 線性掃描伏安法(LSV),計(jì)時(shí)電流法(CA),電流分析法(它),計(jì)時(shí)電位法(CP)等。



